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「酸化物エピタキシャル薄膜 研究の最前線」
第67回フロンティア材料研究所講演会
「酸化物エピタキシャル薄膜 研究の最前線」
開催日時 2018年06月20日 13:30-16:45
開催場所 東京工業大学すずかけ台キャンパス(横浜市緑区長津田町4259)
R3棟1階会議室
アクセス
主催東京工業大学 科学技術創成研究院 フロンティア材料研究所
公益社団法人応用物理学会『強的秩序とその操作に関わる研究グループ』
連絡先東京工業大学 科学技術創成研究院 フロンティア材料研究所 安井 伸太郎
東北大学 永沼 博
ferroic@atomol.che.tohoku.ac.jp
備考【懇親会について】
 時間:17:00~  場所:すずかけ台キャンパス内レストラン
 会費:3,000円
 申込先:東京工業大学 安井 伸太郎(E-mail: yasui.s.aa@m.titech.ac.jp
   ※前日までにご連絡をお願いします。

プログラム等

第67回フロンティア材料研究所学術講演会プログラム

応用物理学会『強的秩序とその操作に関わる研究グループ』

時間 講演テーマ 講演者
13:30~14:30 "Comprehensive approach to study on the crystal structural details within epitaxial BiFeO3 films" Bae In-Tae
(NY州立大学Binghamton校)
14:30~15:30 「放射光分光で観る酸化物ヘテロ構造における埋もれた界面磁性」 北村 未歩
(高エネルギー加速器研究機構)
15:30~15:45 休憩
15:45~16:45 「強磁性ペロブスカイト酸化物ヘテロ界面における特異な磁気異方性」 大矢忍1,2,3、Le Duc Anh1,2、関宗俊1,3、田畑仁1,3、田中雅明1,3
1.東京大学大学院工学系研究科
  電気系工学専攻
 2. 東京大学大学院工学系研究科
  総合研究機構
 3. 東京大学大学院工学系研究科
  スピントロニクス学術連携研究教育センター)  
17:00~ 懇親会

 

 

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