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学際・国際的高度人材育成ライフイノベーションマテリアル創製共同研究
プロジェクト分科会 (第76回フロンティア材料研究所講演会)
第2回酸化物半導体討論会
学際・国際的高度人材育成ライフイノベーションマテリアル創製共同研究
プロジェクト分科会 (第76回フロンティア材料研究所講演会)
開催日時 2018年10月26日 13:00~17:10
開催場所 R3棟1F会議室
主催フロンティア材料研究所
連絡先井手 啓介 助教
E-mail:keisuke@mces.titech.ac.jp
備考http://www.msl.titech.ac.jp/~tkamiya/touron から参加登録をお願い致します。
締切10/19

プログラム等

第2回酸化物半導体討論会ポスター

時間 講演テーマ 講演者
13:00~13:05 「はじめに」 総合司会: 井手 啓介(東工大)
13:05~13:35 「アモルファス酸化物半導体の欠陥と欠陥制御に基づく新規応用の開拓」 井手 啓介 先生
(東京工業大学 助教)
13:35~14:05 「原子層堆積Al2O3膜の酸化物半導体ゲート絶縁膜への応用」 平岩 篤 先生
(早稲田大学 教授)
14:05~14:35 「プラズマアシスト反応性プロセスを用いた低温での高移動度薄膜トランジスタの作製」 竹中 弘祐 先生
(大阪大学 助教)
14:35~14:50 休憩
14:50~15:20 「高性能酸化物薄膜トランジスタとその新展開」 浦岡 行治 先生
(奈良先端科学技術大学院大学 教授)
15:20~15:50 「スパッタ法を用いた酸化物半導体薄膜の作製およびTFT特性」 Junjun Jia 先生
(青山学院大学 助教)
15:50~16:05 休憩
16:05~16:35 「ヘテロチャネルIGZO TFTの特性・信頼性」 古田 守 先生
(高知工科大学 教授)
16:35~17:05 「酸化物半導体デバイスのニューロモーフィック応用」 木村 睦 先生
(龍谷大学 教授)
17:05~17:10 「終わりに」 総合司会: 井手 啓介(東工大)

 

 

 

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