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第202回応用セラミックス研究所講演会(特許庁 大嶋 洋一氏)

開催日時 2011/12/14 15:00~17:00
開催場所 R3棟1F会議室
主催応用セラミックス研究所
連絡先平松 秀典 (h-hirama@lucid.msl.titech.ac.jp)

プログラム等

第202回 応用セラミックス研究所講演会 (第13回 先端無機材料講演会

講師: 大嶋 洋一 (特許庁 特許審査第3部 半導体機器 グループ長 先任上席審査官

講演テーマ: エンジニアのための知的財産制度の活用方法

講演概要: 知的財産制度の概要を紹介し、自らの研究成果を活用するために、どのように知的財産制度を利用できるのかを紹介する。また、「良い特許」とは、どういった特許なのか、発明者として留意できる事項について解説する。

 

 

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