真空蒸着装置

著者: 大野　秀一、修士課程１年生 (2003年度)

どんな装置ですか？

目的：半導体デバイスの電極や、特に金属薄膜の形成に使います。
　　ex) 電界効果トランジスタにおけるゲート絶縁膜、SiO₂上への電極の作成

装置の全体写真。

原理：タンタルボートに電流を流して加熱させ、蒸着させたいものを蒸発させます。

真空チャンバー内部。電極棒の隣りの円柱に留め金によってサンプルを固定します。

その他：排気にはロータリーポンプと拡散ポンプを用いています。拡散ポンプとは油によってジェット噴流をつくり その勢いによって気体を取り込んで排気するポンプです。拡散ポンプを使う理由は被排気物の汚染に強いからです。 蒸着させる物質が粉末の場合、真空ポンプへ侵入してきます。ターボ分子ポンプで排気をしたら回転翼にダメージを うけますが、拡散ポンプならオイルを交換するだけで済みます。