須崎 友文 (すさき ともふみ) 

東京工業大学応用セラミックス研究所 セキュアマテリアル研究センター
大学院総合理工学研究科
 材料物理科学専攻
(兼担)大学院理工学研究科 材料工学専攻

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Last updated 11 April 2014

Tomofumi Susaki <susaki[at]msl.titech.ac.jp>
 
226-8503 横浜市緑区長津田町 4259-R3-36 R3本棟 305 室)
tel/fax 045-924-5360 

 

応用物理学会、日本物理学会、日本セラミックス協会、日本表面科学会の各会員


[略歴]
1995
3 月 東京大学理学部物理学科卒(4年前期:釜江常好研究室(現・スタンフォード大)/後期:青木秀夫研究室
1997
3 月 東京大学大学院理学系研究科物理学専攻修士課程修了(藤森淳研究室

1999 9 月 東京大学大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了(藤森淳研究室
・近藤絶縁体の高分解能光電子分光

1999 10 月 〜 2000 3 月 博士研究員(学振 PD
・光電子分光による YbInCu4 の価数転移の研究

2000 4 月 〜 2003 3 月 博士研究員(理化学研究所基礎科学特別研究員)
・金属 adatom、超薄膜などの光電子分光 (表面化学(川合真紀)研究室

2003 4 月 〜 2003 6 月 博士研究員(理化学研究所協力研究員)
・金属酸化物表面の人工電子状態

2003 6 月 〜 2007 3 月東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻助手
・酸化物薄膜・特に界面の人工電子状態の研究 (Harold Y. Hwang 研究室(現・スタンフォード大))

2007 3 月 〜 東京工業大学応用セラミックス研究所助教授、准教授(4月〜)
・セラミックス界面工学、酸化物界面工学・光電子分光 (セキュアマテリアル研究センター

[兼務など]
2007
4 月 〜 東京工業大学大学院総合理工学研究科准教授(協力講座担当・材料物理科学専攻
2008
4 月 〜 東京工業大学大学院理工学研究科准教授(兼担・材料工学専攻
2008
10 月 〜 20123 月科学技術振興機構(さきがけ)研究者(兼務・「革新的次世代デバイスを目指す材料とプロセス」領域)


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