共同利用機器詳細（26）高輝度試料水平多目的Ｘ線回折装置
| （26）高輝度試料水平多目的Ｘ線回折装置 | |
| 管理研究室 | 安井研究室 |
| 管理者 | 安井 伸太郎 |
| 管理補助者 | |
| 設置場所 | R3棟011号室 |
| 装置概要 |
リガク製薄膜X線回折装置(Smart Lab) 本装置は薄膜の結晶構造を決定するための X 線回折装置である。面外、および面内の構造情報を収集することができ、また、1100℃までの温度範囲で構造の温度変化を調べることができるまた、2次元検出器を付属し、迅速な構造情報を取得することができる。 |
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測定条件及び 利用可能範囲 |
最大定格出力：9 KW 定格管電圧：20~45kV 定格管電流 ：10~100mA 焦点サイズ：0.4x0.8mm2 検出器：シンチレーションカウンターおよび2次元検出器 光学系：平行ビーム用多層膜ミラー、入射可変スリット、In plane 用ソーラ ースリット、Ge220 2結晶モノクロ、Ge220アナライザー結晶 温度範囲：室温～1100℃ |
| 申込方法 | 安井研究室 安井(yasui.s.6818@m.isct.ac.jp)まで事前に連絡。 |
| 利用日時 | 基本的に24時間。ただし、利用時に、部屋の外に、使用者の連絡先を明示すること。 |
| 利用料金 | 1,000円/時間 |
| 注意事項 | 基本的に原理・使用方法に習熟している方に限ります。装置の使用状況を全て、ログノートに記入すること。 |
