共同利用機器詳細（31）マスクレス電子デバイス形成システム
| （31）マスクレス電子デバイス形成システム | |
| 管理研究室 | 笹川研究室 |
| 管理者 | 笹川 崇男 |
| 管理補助者 | |
| 設置場所 | J1棟501 号室 |
| 装置概要 | マイクロ電子デバイスの形成をマスクレスで行うための装置群 （スピンコーター、マスクレスフォトリソグラフィ、レーザー加工、マグネトロンスパッタ、アルゴンミリング、組成・形状計測など） 薄膜に限らず、層状単結晶などのマイクロフレークや大気中不安定物質へのプロセスも可能。 |
| 測定条件及び利用可能範囲 | 通常の使用範囲 |
| 申込方法 | 笹川教員(sasagawa@msl.titech.ac.jp)に連絡し、事前打合せを行うこと。 |
| 利用日時 | 打合せにより決定。 |
| 試料条件 | 10×10mm2 程度の面積をもつ平面基板上の薄膜あるいは単結晶マイクロフレーク |
| 利用料金 | 必要な消耗品については実費。１基板当たりの一連の工程実施毎に装置使用料として２万円。技術相談などは別途相談。 |
| 注意事項 | 特になし |
