第202回応用セラミックス研究所講演会（特許庁 大嶋 洋一氏）
| 開催日時 | 2011年12月14日 15:00～17:00 |
|---|---|
| 開催場所 | R3棟1F会議室 |
| 主催 | 応用セラミックス研究所 |
| 連絡先 | 平松 秀典 (h-hirama@lucid.msl.titech.ac.jp） |
プログラム等
第202回 応用セラミックス研究所講演会 （第13回 先端無機材料講演会）
講師： 大嶋 洋一 （特許庁 特許審査第3部 半導体機器 グループ長 先任上席審査官）
講演テーマ： エンジニアのための知的財産制度の活用方法
講演概要： 知的財産制度の概要を紹介し、自らの研究成果を活用するために、どのように知的財産制度を利用できるのかを紹介する。また、「良い特許」とは、どういった特許なのか、発明者として留意できる事項について解説する。
