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東工大、黒リン高純度に~次世代の半導体素材候補~（笹川崇男准教授）

日経産業新聞 2016年01月21日

日経産業新聞は1月21日付の紙面で、東京工業大学の笹川崇男准教授らが、次世代の半導体素材の候補になる黒リンを高純度で合成する技術を開発したと報じた。

　黒リンは電気が早く動くため、半導体素材に向いている。従来は合成に超高圧が必要だったが、大気圧で作れるようにした。発行ダイオード(LED)や高速コンピュータに使えるとみて実用化を目指す。